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＜概要＞
FilmTekシリーズは、非破壊で高精度の屈折率測定を可能にした光学式の非接触膜厚測定装置です。解析用にパワフルなソフトウェアを用意しています。屈折率、吸収(減衰)係数を固定せず膜厚と同時に屈折率及び吸収係数を算出します。通常、光学膜厚を測定と同時に出力し、次に反射率、透過率からLorenｔz-Lorenzの公式を用いて誘電率を決定します。誘電率が決定されればその材料の波長依存性を物性値としてSCI独自の分散公式を用いて自動計算しn(屈折率),　k(吸収係数)を自動フィッティングしまず。また、屈折率の分解能を10-4以上で計算しているため、固定された屈折率から求める上面からの情報のみのデータだけではなく界面層および、表面での変化、内部の傾斜層の影響を捉えることが可能になります。
すべてのシステムは最大5層まで膜厚、屈折率、吸収係数を同時に測定でき、FilmTek2000以上のシステムについては解析用途として、表面粗さ、エネルギーバンドギャップ、傾斜層、組成まで測定可能です。

＜測定例＞
基本的に光を透過するものについては10nmから100umの膜厚まで精度良く、測定することが可能です。

半導体及び誘電体材料 コンピュータディスク コーティングしたガラス材料 多層光学コーティング材料 レーザーミラー ARコーティング材料 誘電体薄膜 光デバイス PET上の膜 プロセス製造装置用のIn-situモニター 記録メディア(DVD等) 有機膜 ポリマー系材料 カラーフィルム Low-K、High-K材料
＜測定膜例＞ SiOx　a-Si　SiNx　a-C:H　DLC ITO　SOG　Polysilicon　Phot aresist Polyimide　Thin Metals LowK Dielectric Films　等 ＜測定基盤例＞ Silicon　GaAs SOI　Glass SOS　Aluminum	顕微鏡に取り付けることにより、最小スポットサイズ10umを測定可能